WaveMaster®PRO 2 / PRO 2 Wafer
鏡頭和晶圓測試
大批量生產小型塑膠或玻璃鏡片的光學品質與效率要求不斷提高。使用波前量測技術在這樣的批量生產中可以產生很大的優化潛力。
WaveMaster® PRO 2 & PRO 2 Wafer為批量的光學與光學晶片檢測制定了新的標準。典型的量測時間為2秒。
光學元件與托盤的快速更換可以滿足批量生產的先決要件。就測量技術而言,WaveMaster®PRO 2和PRO 2 Wafer使用Shack-Hartmann感測器以確定波前的各種衍生參數。這個非常好的資料庫可以用在其他生產中的優化。
主要特點
- 量測時間:每個鏡片小於兩秒
- 大量樣品的全自動量測(晶圓或載盤)
- 使用者可以選擇通過或失敗的標準
- 絕對或相對的波前測量
- 完整的波前分析(PV,RMS,Zernike,PSF,MTF,Strehl)
- 有兩種類型的測試
- 用於測量球面與非球面透鏡的設置(單透鏡或晶圓)
- 用於平面量測(單面或晶圓)
- 輸出所有單鏡片的量測結果
- 整合量測系統,用於測量晶圓方向,總體晶圓凹陷和傾斜度
產品應用
品質控制
Shack-Hartmann傳感器在批量生產中的應用
- 使用Zernike係數與設計數據進行比較
- 直接比較主樣品
- 使用波前分析確定MTF,材料缺陷和生產誤差
- 楔角(可選)
- EFL(可選)
WaveSensor 或 WaveMaster 軟體®
該軟體結構全面,使用者友好,包括使用WaveSensor或WaveMaster測量和分析球面和非球面樣品所需的所有功能。由於其靈活的可配置性,所有重要的測量結果都會顯示出來。
該軟體與 Shack-Hartmann 感測器通信,並即時分析測量的波前。此外,WaveMaster還可以控制測量系統,以便對準樣品。
- 清晰、功能表引導和可配置的操作
- 簡單直觀地實時測量和分析整個鏡頭元件或表面上的波前
- 一個軟體包羅萬象:數據採集、數據計算、校準和數據顯示
- 絕對和相對測量模式,可與 ZEMAX 和 Code V 的理論設計數據或參考鏡頭進行即時比較
- 通過輸出測量證書完成文件記錄
- 在可調節的測量和分析範圍內清晰地描繪
- 2D波前
- PV 和 RMS
- 強度
- 相機圖像
- 通過多個參數化完整描述表面形貌:
- 非球面方程
- Zernike 多項式
- 圓錐方程
- 球面方程
- 自由曲面